海外製品調達・コンサルテーションサービス「ユニポス」では、様々なメーカーの電極材料をご提供しております。
今回は、その中でも電子線リソグラフィ および ナノ加工用材料を専門的に開発している、イギリス EM Resist 社製品について、ご紹介致します。
目次
なぜ EM Resist が選ばれるのか
EM Resist 社では、 HSQ から PMMA、SU-8 まで、さまざまな高品質の電子ビームレジストとフォトレジストを提供しています。
同社製品の用途は、多岐に渡りますが、半導体向けの電子線リソグラフィ（ebeamリソグラフィ）やフォトニクス分野でのご利用は勿論、フレネルレンズやシリコンフォトニクスなどの光学デバイス向けに同社製品を利用されるユーザーさまも多くいらっしゃり、あらゆるマイクロ・ナノファブリケーションラボで利用されています。
EM Resist のSMLレジストは、高アスペクト比のポジ型レジストであり、PMMA レジストと比較して優れたエッチング耐性を持っており、特定の用途ではZEPレジストの代替として使用が可能です。
また、レジストテクノロジーの専門スタッフによるご購入前の製品や用途に対してのきめ細かいサポート、お客さまのご要望を元にした調合サービス等、お客さまの研究開発に即した柔軟性のあるサービスが、同社製品が選ばれる理由の一つとなっています。
EM Resist 社 レジスト一覧
| ポジ型 | ネガ型 | |
|---|---|---|
| 電子ビームレジスト |
|
|
| フォトレジスト | – |
|
利用例のご紹介
EM Resistの定番製品、HSQ Resist が新配合になり、1％-40％までの濃度をお選びいただけるようになりました。
今回発売された新たな配合の HSQ Resist は、独自の製造技術で、材料の安定性とインエッジラフネス（LER）を向上させる事で、ユーザーコストの削減を実現しており、一部ユーザーさまではFOXの代用品としても検討されています。
以下に実際のご利用事例をご紹介致します。
パウル・シェラー研究所 (スイス) Kevin Hofhuis 博士のご利用例
HSQ Resist : 2% Solution
Paul Scherrer Institut PSI
https://www.psi.ch/en
マックス・プランク研究所 (ドイツ) Jiho Yoon 博士のご利用例
HSQ Resist : 6% Solution
The Max Planck Society for the Advancement of Science
https://www.mpg.de/en
XRnanotech社 (スイス) Damien Eschimese 博士のご利用例
HSQ Resist : 20% Solution
X-ray optics | XRnanotech
https://www.xrnanotech.com/
ダウンロード
左記の画像クリックでHSQ Resist のチラシをダウンロードいただけます
ご要望に合わせた柔軟な対応
EM Resist 社では、お客さまのご要望に合わせ、カスタムサービスも提供しております。
サイズは、250 mLから、ドラムサイズまで、ご要望にあわせて対応致します。
カスタムの内容は、メーカー既存製品の濃度変更から、特注ブレンドまでご相談を承ります。
なお、開発段階で完成したブレンド内容を、大規模生産する場合も、EM Resist 社にて生産、包装、ラベル付けまでを一貫してサポートする事が可能です。
Services | EM Resist Ltd
https://www.emresist.com/services
ご希望の場合は、用途と併せ、ユニポスまでお知らせください。
|
■商品の詳細、お問い合わせはこちら
|
